活動中製造業更新: 2026/06/10
浜松ホトニクス株式会社
法人番号: 2080401004193
企業基本情報
商号または名称浜松ホトニクス株式会社
フリガナハママツホトニクス
登記住所静岡県浜松市中央区市野町１１２６番地の１
代表者名執行役員 丸野 正
資本金3,520,000万円
従業員数4262名
設立年月日1953-09-29
事業種目 (Tags)食料品製造業, 繊維工業, 情報サービス業, 製造業
決算・財務状況推移 (5年間)
公的データ CSV
売上高 (棒グラフ)経常利益 (折れ線)
大株主構成
| 株主・投資家名 | 所有割合 |
|---|---|
| 日本マスタートラスト信託銀行株式会社（信託口） | 0.1662% |
| 株式会社日本カストディ銀行（信託口） | 0.0772% |
| 浜松ホトニクス従業員持株会 | 0.0295% |
| ジェーピー モルガン チェース バンク 385864 （常任代理人 株式会社みずほ銀行決済営業部） | 0.0214% |
| 野村信託銀行株式会社（投信口） | 0.0199% |
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営業シグナルタイムライン (Intent Data)
日付未登録
次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定
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category:２０２４
note:null
日付未登録
えるぼし－認定
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category:null
note:２段階目
日付未登録
次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定
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部門:２０２４
発行元:厚生労働省
日付未登録
えるぼし－認定
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発行元:厚生労働省
備考:２段階目
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2024-06-28
平成２６年度及び平成２７年度「次世代高度運転支援システム研究開発・実証プロジェクト」等により取得した物品の売払い２
2024-06-28
平成２６年度及び平成２７年度「次世代高度運転支援システム研究開発・実証プロジェクト」等により取得した物品の売払い３
2023-05-15
経済安全保障重要技術育成プログラム／高感度小型多波長赤外線センサ技術の開発高感度小型多波長赤外線センサ開発およびフィールド実証
2021-06-24
ＮＥＤＯ先導研究プログラムエネルギー・環境新技術先導研究プログラム絶縁基板上大面積高品質グラフェン成膜技術の開発と光デバイス応用
2020-07-28
ＩｏＴ社会実現のための革新的センシング技術開発革新的センシング技術開発波長掃引中赤外レーザによる次世代火山ガス防災技術の研究開発
2019-01-29
高輝度・高効率次世代レーザー技術開発次々世代加工に向けた新規光源・要素技術開発分子振動を利用する高効率加工プロセス用中赤外高出力レーザー光源開発
2017-03-13
物品「高真空蒸着装置」外４４件の売払
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2024-06-28
平成２６年度及び平成２７年度「次世代高度運転支援システム研究開発・実証プロジェクト」等により取得した物品の売払い２
シグナル詳細内容 🔑
落札価格:2000000
組織名:経済産業省
2024-06-28
平成２６年度及び平成２７年度「次世代高度運転支援システム研究開発・実証プロジェクト」等により取得した物品の売払い３
シグナル詳細内容 🔑
落札価格:2000000
組織名:経済産業省
2023-05-15
経済安全保障重要技術育成プログラム／高感度小型多波長赤外線センサ技術の開発高感度小型多波長赤外線センサ開発およびフィールド実証
シグナル詳細内容 🔑
落札価格:899999100
組織名:国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構
2021-06-24
ＮＥＤＯ先導研究プログラムエネルギー・環境新技術先導研究プログラム絶縁基板上大面積高品質グラフェン成膜技術の開発と光デバイス応用
シグナル詳細内容 🔑
落札価格:2989800
組織名:国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構
2020-07-28
ＩｏＴ社会実現のための革新的センシング技術開発革新的センシング技術開発波長掃引中赤外レーザによる次世代火山ガス防災技術の研究開発
シグナル詳細内容 🔑
落札価格:90999700
組織名:国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構
2019-01-29
高輝度・高効率次世代レーザー技術開発次々世代加工に向けた新規光源・要素技術開発分子振動を利用する高効率加工プロセス用中赤外高出力レーザー光源開発
シグナル詳細内容 🔑
落札価格:87496200
組織名:国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構
2017-03-13
物品「高真空蒸着装置」外４４件の売払
シグナル詳細内容 🔑
落札価格:4823982
組織名:文部科学省
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2023-09-28
エックス線発生器
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意匠: 1768300 - エックス線発生器
2023-09-28
エックス線発生器
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意匠: 1768461 - エックス線発生器
2023-09-28
エックス線発生器
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意匠: 1768456 - エックス線発生器
2023-09-28
エックス線発生器
シグナル詳細内容 🔑
意匠: 1768297 - エックス線発生器
2023-09-28
エックス線発生器
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意匠: 1768520 - エックス線発生器
2023-09-28
エックス線発生器
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意匠: 1768521 - エックス線発生器
2023-09-28
エックス線発生器
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意匠: 1768299 - エックス線発生器
2023-09-28
エックス線発生器
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意匠: 1768516 - エックス線発生器
2023-09-28
エックス線発生器
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意匠: 1768517 - エックス線発生器
2023-09-28
エックス線発生器
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意匠: 1768457 - エックス線発生器
2023-09-28
エックス線発生器
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意匠: 1768298 - エックス線発生器
2023-09-28
エックス線発生器
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意匠: 1768458 - エックス線発生器
2023-09-28
エックス線発生器
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意匠: 1768459 - エックス線発生器
2023-09-28
エックス線発生器
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意匠: 1768460 - エックス線発生器
2023-09-28
エックス線発生器
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意匠: 1768462 - エックス線発生器
2023-09-28
エックス線発生器
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意匠: 1768518 - エックス線発生器
2023-09-28
エックス線発生器
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意匠: 1768519 - エックス線発生器
2023-09-07
§Ｎａｎｏ Ｚｏｏｍｅｒ
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商標: 6804774 - §Ｎａｎｏ Ｚｏｏｍｅｒ
2023-09-07
§Ｎａｎｏ Ｚｏｏｍｅｒ
シグナル詳細内容 🔑
商標: 6804774 - §Ｎａｎｏ Ｚｏｏｍｅｒ
2023-09-07
モデル生成方法、モデル生成システム、モデル生成プログラム、異物検出方法、異物検出システム、異物検出プログラム及び推論モデル
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7424572 - モデル生成方法、モデル生成システム、モデル生成プログラム、異物検出方法、異物検出システム、異物検出プログラム及び推論モデル
2023-09-07
モデル生成方法、モデル生成システム、モデル生成プログラム、異物検出方法、異物検出システム、異物検出プログラム及び推論モデル
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7424572 - モデル生成方法、モデル生成システム、モデル生成プログラム、異物検出方法、異物検出システム、異物検出プログラム及び推論モデル
2023-09-07
モデル生成方法、モデル生成システム、モデル生成プログラム、異物検出方法、異物検出システム、異物検出プログラム及び推論モデル
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特許: 7424572 - モデル生成方法、モデル生成システム、モデル生成プログラム、異物検出方法、異物検出システム、異物検出プログラム及び推論モデル
2023-09-07
モデル生成方法、モデル生成システム、モデル生成プログラム、異物検出方法、異物検出システム、異物検出プログラム及び推論モデル
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特許: 7424572 - モデル生成方法、モデル生成システム、モデル生成プログラム、異物検出方法、異物検出システム、異物検出プログラム及び推論モデル
2023-09-05
ＭＯＸＩＥＰＬＥＸ
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商標: 6802915 - ＭＯＸＩＥＰＬＥＸ
2023-09-05
ＭＯＸＩＥＰＬＥＸ
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商標: 6802915 - ＭＯＸＩＥＰＬＥＸ
2023-09-05
ＭＯＸＩＥＰＬＥＸ
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商標: 6802915 - ＭＯＸＩＥＰＬＥＸ
2023-08-29
Ｓｔｅａｌｔｈ Ｄｉｃｉｎｇ ｅｙｅ
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商標: 6785097 - Ｓｔｅａｌｔｈ Ｄｉｃｉｎｇ ｅｙｅ
2023-08-29
Ｓｔｅａｌｔｈ Ｄｉｃｉｎｇ ｅｙｅ
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商標: 6785097 - Ｓｔｅａｌｔｈ Ｄｉｃｉｎｇ ｅｙｅ
2023-08-23
Ｓｏｌｉｄ Ｃｏｌｄ
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商標: 6804703 - Ｓｏｌｉｄ Ｃｏｌｄ
2023-06-07
試料支持体及び試料支持体の製造方法
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特許: 7469540 - 試料支持体及び試料支持体の製造方法
2023-06-07
試料支持体及び試料支持体の製造方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7469540 - 試料支持体及び試料支持体の製造方法
2023-06-07
試料支持体及び試料支持体の製造方法
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特許: 7469540 - 試料支持体及び試料支持体の製造方法
2023-06-07
試料支持体及び試料支持体の製造方法
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特許: 7469540 - 試料支持体及び試料支持体の製造方法
2023-06-07
試料支持体及び試料支持体の製造方法
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特許: 7469540 - 試料支持体及び試料支持体の製造方法
2023-06-07
試料支持体及び試料支持体の製造方法
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特許: 7469540 - 試料支持体及び試料支持体の製造方法
2023-04-27
発光封体
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特許: 7462815 - 発光封体
2023-02-22
ＭＣＰ検出器及び分析装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7477673 - ＭＣＰ検出器及び分析装置
2023-02-22
ＭＣＰ検出器及び分析装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7477673 - ＭＣＰ検出器及び分析装置
2023-02-22
ＭＣＰ検出器及び分析装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7477673 - ＭＣＰ検出器及び分析装置
2023-02-22
ＭＣＰ検出器及び分析装置
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特許: 7477673 - ＭＣＰ検出器及び分析装置
2022-11-04
リンパ系検査装置及びリンパ系検査方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7433400 - リンパ系検査装置及びリンパ系検査方法
2022-11-04
リンパ系検査装置及びリンパ系検査方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7433400 - リンパ系検査装置及びリンパ系検査方法
2021-10-29
発光素子の製造方法
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特許: 7474231 - 発光素子の製造方法
2021-10-29
発光素子の製造方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7474231 - 発光素子の製造方法
2021-10-29
発光素子の製造方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7474231 - 発光素子の製造方法
2020-12-25
光検出器
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7488761 - 光検出器
2020-12-25
光検出器
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7488761 - 光検出器
2020-12-23
空間光変調器および発光装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7488836 - 空間光変調器および発光装置
2020-12-23
放射線検出器、及び放射線検出器の製造方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7457640 - 放射線検出器、及び放射線検出器の製造方法
2020-12-23
空間光変調器および発光装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7488836 - 空間光変調器および発光装置
2020-12-23
放射線検出器、放射線検出器の製造方法、及びシンチレータパネルユニット
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7470631 - 放射線検出器、放射線検出器の製造方法、及びシンチレータパネルユニット
2020-12-23
空間光変調器および発光装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7488836 - 空間光変調器および発光装置
2020-12-23
放射線検出器、及び放射線検出器の製造方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7457640 - 放射線検出器、及び放射線検出器の製造方法
2020-12-23
放射線検出器、放射線検出器の製造方法、及びシンチレータパネルユニット
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7470631 - 放射線検出器、放射線検出器の製造方法、及びシンチレータパネルユニット
2020-12-23
放射線検出器、放射線検出器の製造方法、及びシンチレータパネルユニット
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7470631 - 放射線検出器、放射線検出器の製造方法、及びシンチレータパネルユニット
2020-12-23
空間光変調器および発光装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7488836 - 空間光変調器および発光装置
2020-12-21
光パルス生成装置及び光パルス生成方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7441780 - 光パルス生成装置及び光パルス生成方法
2020-12-21
光パルス生成装置及び光パルス生成方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7441780 - 光パルス生成装置及び光パルス生成方法
2020-12-14
試料支持体、イオン化法及び質量分析方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7449848 - 試料支持体、イオン化法及び質量分析方法
2020-12-14
試料支持体、イオン化法及び質量分析方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7449848 - 試料支持体、イオン化法及び質量分析方法
2020-12-14
試料支持体、イオン化法及び質量分析方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7449848 - 試料支持体、イオン化法及び質量分析方法
2020-12-14
試料支持体、イオン化法及び質量分析方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7449848 - 試料支持体、イオン化法及び質量分析方法
2020-12-14
試料支持体、イオン化法及び質量分析方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7449848 - 試料支持体、イオン化法及び質量分析方法
2020-12-14
試料支持体、イオン化法及び質量分析方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7449848 - 試料支持体、イオン化法及び質量分析方法
2020-12-14
試料支持体、イオン化法及び質量分析方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7449848 - 試料支持体、イオン化法及び質量分析方法
2020-10-30
エネルギー線管
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7453893 - エネルギー線管
2020-10-30
エネルギー線管
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7453893 - エネルギー線管
2020-10-30
エネルギー線管
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7453893 - エネルギー線管
2020-10-19
光学特性評価装置および光学特性評価方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7460080 - 光学特性評価装置および光学特性評価方法
2020-10-19
光変調器及び光変調器アレイ
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特許: 7460079 - 光変調器及び光変調器アレイ
2020-10-06
光検出装置
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特許: 7476133 - 光検出装置
2020-10-06
光検出装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7476133 - 光検出装置
2020-10-06
光検出装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7476133 - 光検出装置
2020-10-02
分散測定装置および分散測定方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7449214 - 分散測定装置および分散測定方法
2020-10-02
半導体レーザ素子
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7422045 - 半導体レーザ素子
2020-10-02
半導体レーザ素子
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7422045 - 半導体レーザ素子
2020-10-02
分散測定装置および分散測定方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7449214 - 分散測定装置および分散測定方法
2020-10-02
分散測定装置および分散測定方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7449214 - 分散測定装置および分散測定方法
2020-10-02
光導波構造及び光源装置
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特許: 7477420 - 光導波構造及び光源装置
2020-10-02
光導波構造及び光源装置
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特許: 7477420 - 光導波構造及び光源装置
2020-09-18
ＴＯＦ－ＰＥＴ装置および断層画像取得方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7454816 - ＴＯＦ－ＰＥＴ装置および断層画像取得方法
2020-09-18
ＴＯＦ－ＰＥＴ装置および断層画像取得方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7454816 - ＴＯＦ－ＰＥＴ装置および断層画像取得方法
2020-09-18
ＴＯＦ－ＰＥＴ装置および断層画像取得方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7454816 - ＴＯＦ－ＰＥＴ装置および断層画像取得方法
2020-09-18
ＴＯＦ－ＰＥＴ装置および断層画像取得方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7454816 - ＴＯＦ－ＰＥＴ装置および断層画像取得方法
2020-09-18
ＴＯＦ－ＰＥＴ装置および断層画像取得方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7454816 - ＴＯＦ－ＰＥＴ装置および断層画像取得方法
2020-09-18
ＴＯＦ－ＰＥＴ装置および断層画像取得方法
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特許: 7454816 - ＴＯＦ－ＰＥＴ装置および断層画像取得方法
2020-09-15
外部共振型レーザモジュール
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7489277 - 外部共振型レーザモジュール
2020-09-15
外部共振型レーザモジュール
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7489277 - 外部共振型レーザモジュール
2020-09-15
外部共振型レーザモジュール
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7489277 - 外部共振型レーザモジュール
2020-09-04
放射線検出器及び穴明け装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7446959 - 放射線検出器及び穴明け装置
2020-09-04
放射線検出器及び穴明け装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7446959 - 放射線検出器及び穴明け装置
2020-09-04
放射線検出器及び穴明け装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7446959 - 放射線検出器及び穴明け装置
2020-09-04
放射線検出器及び穴明け装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7446959 - 放射線検出器及び穴明け装置
2020-09-04
放射線検出器及び穴明け装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7446959 - 放射線検出器及び穴明け装置
2020-08-31
ファイバオプティックプレート、シンチレータパネル、放射線検出器、電子顕微鏡、Ｘ線遮蔽方法、及び、電子線遮蔽方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7474268 - ファイバオプティックプレート、シンチレータパネル、放射線検出器、電子顕微鏡、Ｘ線遮蔽方法、及び、電子線遮蔽方法
2020-08-31
ファイバオプティックプレート、シンチレータパネル、放射線検出器、電子顕微鏡、Ｘ線遮蔽方法、及び、電子線遮蔽方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7474268 - ファイバオプティックプレート、シンチレータパネル、放射線検出器、電子顕微鏡、Ｘ線遮蔽方法、及び、電子線遮蔽方法
2020-08-31
ファイバオプティックプレート、シンチレータパネル、放射線検出器、電子顕微鏡、Ｘ線遮蔽方法、及び、電子線遮蔽方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7474268 - ファイバオプティックプレート、シンチレータパネル、放射線検出器、電子顕微鏡、Ｘ線遮蔽方法、及び、電子線遮蔽方法
2020-08-31
ファイバオプティックプレート、シンチレータパネル、放射線検出器、電子顕微鏡、Ｘ線遮蔽方法、及び、電子線遮蔽方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7474268 - ファイバオプティックプレート、シンチレータパネル、放射線検出器、電子顕微鏡、Ｘ線遮蔽方法、及び、電子線遮蔽方法
2020-08-31
ファイバオプティックプレート、シンチレータパネル、放射線検出器、電子顕微鏡、Ｘ線遮蔽方法、及び、電子線遮蔽方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7474268 - ファイバオプティックプレート、シンチレータパネル、放射線検出器、電子顕微鏡、Ｘ線遮蔽方法、及び、電子線遮蔽方法
2020-08-31
ファイバオプティックプレート、シンチレータパネル、放射線検出器、電子顕微鏡、Ｘ線遮蔽方法、及び、電子線遮蔽方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7474268 - ファイバオプティックプレート、シンチレータパネル、放射線検出器、電子顕微鏡、Ｘ線遮蔽方法、及び、電子線遮蔽方法
2020-08-31
ファイバオプティックプレート、シンチレータパネル、放射線検出器、電子顕微鏡、Ｘ線遮蔽方法、及び、電子線遮蔽方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7474268 - ファイバオプティックプレート、シンチレータパネル、放射線検出器、電子顕微鏡、Ｘ線遮蔽方法、及び、電子線遮蔽方法
2020-08-21
光電面電子源
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7422035 - 光電面電子源
2020-08-21
光電面電子源
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7422035 - 光電面電子源
2020-08-21
光電面電子源
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7422035 - 光電面電子源
2020-08-21
光電面電子源
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7422035 - 光電面電子源
2020-08-20
レーザ加工装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7487045 - レーザ加工装置
2020-08-20
レーザ加工装置
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特許: 7487045 - レーザ加工装置
2020-08-20
レーザ加工装置
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特許: 7487045 - レーザ加工装置
2020-08-20
レーザ加工装置
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特許: 7487045 - レーザ加工装置
2020-08-20
レーザ加工装置
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特許: 7487045 - レーザ加工装置
2020-08-20
レーザ加工装置
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特許: 7487045 - レーザ加工装置
2020-08-19
試料支持体
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特許: 7471174 - 試料支持体
2020-08-19
身体状態推定システム及び身体状態推定方法
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特許: 7470601 - 身体状態推定システム及び身体状態推定方法
2020-08-19
試料支持体
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特許: 7471174 - 試料支持体
2020-08-19
身体状態推定システム及び身体状態推定方法
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特許: 7470601 - 身体状態推定システム及び身体状態推定方法
2020-08-19
身体状態推定システム及び身体状態推定方法
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特許: 7470601 - 身体状態推定システム及び身体状態推定方法
2020-08-19
試料支持体
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特許: 7471174 - 試料支持体
2020-08-19
試料支持体
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特許: 7471174 - 試料支持体
2020-07-15
蛍光素子
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特許: 7446937 - 蛍光素子
2020-07-15
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7438048 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-07-15
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7438047 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-07-15
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7438047 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-07-15
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7438046 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-07-15
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7438046 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-07-15
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7438046 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-07-15
蛍光素子
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特許: 7446937 - 蛍光素子
2020-07-15
チャネル型電子増倍体およびイオン検出器
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特許: 7432459 - チャネル型電子増倍体およびイオン検出器
2020-07-15
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7438047 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-07-15
チャネル型電子増倍体およびイオン検出器
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特許: 7432459 - チャネル型電子増倍体およびイオン検出器
2020-07-15
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7438048 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-07-15
蛍光素子
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特許: 7446937 - 蛍光素子
2020-07-15
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7438047 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-07-15
蛍光素子
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特許: 7446937 - 蛍光素子
2020-07-15
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7438048 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-07-15
蛍光素子
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特許: 7446937 - 蛍光素子
2020-07-15
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7438046 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-07-14
光整形装置及び光整形方法
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特許: 7436311 - 光整形装置及び光整形方法
2020-07-14
光整形装置及び光整形方法
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特許: 7436311 - 光整形装置及び光整形方法
2020-07-14
光整形装置及び光整形方法
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特許: 7436311 - 光整形装置及び光整形方法
2020-07-14
光整形装置及び光整形方法
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特許: 7436311 - 光整形装置及び光整形方法
2020-07-14
光整形装置及び光整形方法
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特許: 7436311 - 光整形装置及び光整形方法
2020-07-01
高速検査用の傾斜型光干渉断層撮影イメージング
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特許: 7433467 - 高速検査用の傾斜型光干渉断層撮影イメージング
2020-06-23
エキシマランプ
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特許: 7453862 - エキシマランプ
2020-06-23
エキシマランプ
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特許: 7453862 - エキシマランプ
2020-06-23
エキシマランプ
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特許: 7453862 - エキシマランプ
2020-06-23
エキシマランプ
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特許: 7453862 - エキシマランプ
2020-06-17
活性エネルギ照射ユニット及び活性エネルギ照射装置
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特許: 7474128 - 活性エネルギ照射ユニット及び活性エネルギ照射装置
2020-06-17
画像出力装置
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特許: 7474126 - 画像出力装置
2020-06-17
画像出力装置
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特許: 7474126 - 画像出力装置
2020-06-17
活性エネルギ照射ユニット及び活性エネルギ照射装置
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特許: 7474128 - 活性エネルギ照射ユニット及び活性エネルギ照射装置
2020-06-17
活性エネルギ照射ユニット及び活性エネルギ照射装置
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特許: 7474128 - 活性エネルギ照射ユニット及び活性エネルギ照射装置
2020-06-17
活性エネルギ照射ユニット及び活性エネルギ照射装置
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特許: 7474128 - 活性エネルギ照射ユニット及び活性エネルギ照射装置
2020-06-04
発光装置、発光方法及び有機発光素子
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特許: 7438509 - 発光装置、発光方法及び有機発光素子
2020-06-04
発光装置、発光方法及び有機発光素子
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特許: 7438509 - 発光装置、発光方法及び有機発光素子
2020-06-04
発光装置、発光方法及び有機発光素子
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特許: 7438509 - 発光装置、発光方法及び有機発光素子
2020-06-04
発光装置、発光方法及び有機発光素子
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特許: 7438509 - 発光装置、発光方法及び有機発光素子
2020-05-12
光電陰極、電子管、及び、電子管の製造方法
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特許: 7422147 - 光電陰極、電子管、及び、電子管の製造方法
2020-05-12
光電陰極、電子管、及び、電子管の製造方法
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特許: 7422147 - 光電陰極、電子管、及び、電子管の製造方法
2020-05-12
光電陰極、電子管、及び、電子管の製造方法
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特許: 7422147 - 光電陰極、電子管、及び、電子管の製造方法
2020-05-12
光電陰極、電子管、及び、電子管の製造方法
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特許: 7422147 - 光電陰極、電子管、及び、電子管の製造方法
2020-04-28
レーザ加工ヘッド及びレーザ加工装置
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特許: 7475952 - レーザ加工ヘッド及びレーザ加工装置
2020-04-28
レーザ加工装置
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特許: 7438009 - レーザ加工装置
2020-04-28
レーザ加工ヘッド及びレーザ加工装置
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特許: 7475952 - レーザ加工ヘッド及びレーザ加工装置
2020-04-28
レーザ加工装置
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特許: 7438009 - レーザ加工装置
2020-04-28
レーザ加工装置
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特許: 7430570 - レーザ加工装置
2020-04-28
レーザ加工ヘッド及びレーザ加工装置
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特許: 7475952 - レーザ加工ヘッド及びレーザ加工装置
2020-04-28
レーザ加工装置
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特許: 7430570 - レーザ加工装置
2020-04-15
半導体チップの製造方法
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特許: 7477835 - 半導体チップの製造方法
2020-04-15
半導体チップの製造方法
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特許: 7477835 - 半導体チップの製造方法
2020-04-15
半導体チップの製造方法
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特許: 7477835 - 半導体チップの製造方法
2020-04-15
半導体チップの製造方法
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特許: 7477835 - 半導体チップの製造方法
2020-04-15
半導体チップの製造方法
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特許: 7477835 - 半導体チップの製造方法
2020-04-15
半導体チップの製造方法
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特許: 7477835 - 半導体チップの製造方法
2020-04-15
半導体チップの製造方法
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特許: 7477835 - 半導体チップの製造方法
2020-04-15
半導体チップの製造方法
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特許: 7477835 - 半導体チップの製造方法
2020-04-15
半導体チップの製造方法
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特許: 7477835 - 半導体チップの製造方法
2020-04-13
電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
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特許: 7431649 - 電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
2020-04-13
エネルギー線照射装置
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特許: 7434041 - エネルギー線照射装置
2020-04-13
光学素子の製造方法、及び、光学素子
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特許: 7474103 - 光学素子の製造方法、及び、光学素子
2020-04-13
エネルギー線照射装置
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特許: 7434041 - エネルギー線照射装置
2020-04-13
電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
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特許: 7431649 - 電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
2020-04-13
電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
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特許: 7431649 - 電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
2020-04-13
光学素子の製造方法、及び、光学素子
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特許: 7469946 - 光学素子の製造方法、及び、光学素子
2020-04-13
エネルギー線照射装置
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特許: 7434041 - エネルギー線照射装置
2020-04-13
電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
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特許: 7431649 - 電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
2020-04-13
光学素子の製造方法、及び、光学素子
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特許: 7474103 - 光学素子の製造方法、及び、光学素子
2020-04-13
電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
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特許: 7431649 - 電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
2020-04-13
電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7431649 - 電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
2020-04-13
エネルギー線照射装置
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特許: 7434041 - エネルギー線照射装置
2020-04-13
電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
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特許: 7431649 - 電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
2020-04-13
エネルギー線照射装置
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特許: 7434041 - エネルギー線照射装置
2020-04-13
エネルギー線照射装置
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特許: 7434041 - エネルギー線照射装置
2020-04-13
エネルギー線照射装置
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特許: 7434041 - エネルギー線照射装置
2020-04-13
エネルギー線照射装置
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特許: 7434041 - エネルギー線照射装置
2020-04-13
電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
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特許: 7431649 - 電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
2020-04-13
電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
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特許: 7431649 - 電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
2020-04-13
電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7431649 - 電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
2020-04-13
電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7431649 - 電子線発生源、電子線照射装置、及びＸ線照射装置
2020-04-13
エネルギー線照射装置
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特許: 7434041 - エネルギー線照射装置
2020-04-08
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7488684 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-04-08
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7488684 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-04-08
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7488684 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-04-08
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7488684 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-04-08
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7488684 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-04-06
レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7467208 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
2020-04-06
レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
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特許: 7467208 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
2020-04-02
レーザ加工装置及び検査方法
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特許: 7488682 - レーザ加工装置及び検査方法
2020-04-02
量子カスケードレーザ素子及び量子カスケードレーザ装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7421989 - 量子カスケードレーザ素子及び量子カスケードレーザ装置
2020-04-02
レーザ加工装置及び検査方法
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特許: 7488682 - レーザ加工装置及び検査方法
2020-04-02
量子カスケードレーザ素子及び量子カスケードレーザ装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7421989 - 量子カスケードレーザ素子及び量子カスケードレーザ装置
2020-04-02
レーザ加工装置及び検査方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7488682 - レーザ加工装置及び検査方法
2020-04-02
量子カスケードレーザ素子及び量子カスケードレーザ装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7421989 - 量子カスケードレーザ素子及び量子カスケードレーザ装置
2020-04-02
レーザ加工装置及び検査方法
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特許: 7488682 - レーザ加工装置及び検査方法
2020-04-02
レーザ加工装置及び検査方法
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特許: 7488682 - レーザ加工装置及び検査方法
2020-03-30
量子カスケードレーザ
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特許: 7475924 - 量子カスケードレーザ
2020-03-26
共焦点顕微鏡ユニット及び共焦点顕微鏡
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7488253 - 共焦点顕微鏡ユニット及び共焦点顕微鏡
2020-03-26
共焦点顕微鏡ユニット及び共焦点顕微鏡
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7488253 - 共焦点顕微鏡ユニット及び共焦点顕微鏡
2020-03-26
共焦点顕微鏡ユニット及び共焦点顕微鏡
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7488253 - 共焦点顕微鏡ユニット及び共焦点顕微鏡
2020-03-18
半導体レーザ装置
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特許: 7463149 - 半導体レーザ装置
2020-03-10
レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
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特許: 7441683 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
2020-03-10
レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
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特許: 7441684 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
2020-03-10
レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
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特許: 7441684 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
2020-03-10
レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
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特許: 7441683 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
2020-03-10
レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
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特許: 7441683 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
2020-03-10
レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
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特許: 7441683 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
2020-03-10
レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
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特許: 7441684 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
2020-03-10
レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
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特許: 7441684 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
2020-03-10
レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
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特許: 7441683 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
2020-03-10
レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
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特許: 7441683 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
2020-03-02
静電チャック装置用電源、静電チャック装置、及びデチャック制御方法
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特許: 7453945 - 静電チャック装置用電源、静電チャック装置、及びデチャック制御方法
2020-03-02
静電チャック装置用電源、静電チャック装置、及びデチャック制御方法
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特許: 7453945 - 静電チャック装置用電源、静電チャック装置、及びデチャック制御方法
2020-03-02
静電チャック装置用電源、静電チャック装置、及びデチャック制御方法
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特許: 7453945 - 静電チャック装置用電源、静電チャック装置、及びデチャック制御方法
2020-03-02
静電チャック装置用電源、静電チャック装置、及びデチャック制御方法
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特許: 7453945 - 静電チャック装置用電源、静電チャック装置、及びデチャック制御方法
2020-03-02
静電チャック装置用電源、静電チャック装置、及びデチャック制御方法
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特許: 7453945 - 静電チャック装置用電源、静電チャック装置、及びデチャック制御方法
2020-02-26
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7421951 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-02-26
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7421951 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-02-26
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7421951 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-02-21
プリズムロッドホルダ、レーザモジュール、レーザ加工装置及び保持構造
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特許: 7461159 - プリズムロッドホルダ、レーザモジュール、レーザ加工装置及び保持構造
2020-02-21
プリズムロッドホルダ、レーザモジュール、レーザ加工装置及び保持構造
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特許: 7461159 - プリズムロッドホルダ、レーザモジュール、レーザ加工装置及び保持構造
2020-02-20
検出システムおよび学習方法
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特許: 7454402 - 検出システムおよび学習方法
2020-02-20
検出システムおよび学習方法
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特許: 7454402 - 検出システムおよび学習方法
2020-02-20
検出システムおよび学習方法
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特許: 7454402 - 検出システムおよび学習方法
2020-02-20
検出システムおよび学習方法
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特許: 7454402 - 検出システムおよび学習方法
2020-02-20
検出システムおよび学習方法
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特許: 7454402 - 検出システムおよび学習方法
2020-01-31
質量分析装置、及び質量分析方法
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特許: 7479859 - 質量分析装置、及び質量分析方法
2020-01-31
レーザ加工方法、半導体部材製造方法、及び、レーザ加工装置
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特許: 7427189 - レーザ加工方法、半導体部材製造方法、及び、レーザ加工装置
2020-01-31
撮像ユニット、質量分析装置、及び質量分析方法
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特許: 7424578 - 撮像ユニット、質量分析装置、及び質量分析方法
2020-01-31
撮像ユニット、質量分析装置、及び質量分析方法
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特許: 7424578 - 撮像ユニット、質量分析装置、及び質量分析方法
2020-01-31
質量分析装置、及び質量分析方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7479859 - 質量分析装置、及び質量分析方法
2020-01-31
レーザ加工方法、半導体部材製造方法、及び、レーザ加工装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7427189 - レーザ加工方法、半導体部材製造方法、及び、レーザ加工装置
2020-01-31
レーザ加工方法、半導体部材製造方法、及び、レーザ加工装置
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特許: 7427189 - レーザ加工方法、半導体部材製造方法、及び、レーザ加工装置
2020-01-31
撮像ユニット、質量分析装置、及び質量分析方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7424578 - 撮像ユニット、質量分析装置、及び質量分析方法
2020-01-31
撮像ユニット、質量分析装置、及び質量分析方法
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特許: 7424578 - 撮像ユニット、質量分析装置、及び質量分析方法
2020-01-31
質量分析装置、及び質量分析方法
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特許: 7479859 - 質量分析装置、及び質量分析方法
2020-01-31
質量分析装置、及び質量分析方法
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特許: 7479859 - 質量分析装置、及び質量分析方法
2020-01-31
質量分析装置、及び質量分析方法
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特許: 7479859 - 質量分析装置、及び質量分析方法
2020-01-31
質量分析装置、及び質量分析方法
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特許: 7479859 - 質量分析装置、及び質量分析方法
2020-01-31
撮像ユニット、質量分析装置、及び質量分析方法
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特許: 7424578 - 撮像ユニット、質量分析装置、及び質量分析方法
2020-01-31
撮像ユニット、質量分析装置、及び質量分析方法
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特許: 7424578 - 撮像ユニット、質量分析装置、及び質量分析方法
2020-01-28
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7460377 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-01-28
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7460377 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-01-28
ミラーユニット
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特許: 7438767 - ミラーユニット
2020-01-28
レーザ加工装置及びレーザ加工方法
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特許: 7460377 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法
2020-01-28
ミラーユニット
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特許: 7438767 - ミラーユニット
2020-01-28
ミラーユニット
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特許: 7438767 - ミラーユニット
2020-01-27
レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7436219 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
2020-01-27
レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7436219 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
2020-01-27
レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
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特許: 7436219 - レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法
2020-01-23
ウェハ搬送ユニット及びウェハ搬送方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7454385 - ウェハ搬送ユニット及びウェハ搬送方法
2020-01-23
ウェハ搬送ユニット及びウェハ搬送方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7454385 - ウェハ搬送ユニット及びウェハ搬送方法
2020-01-20
光源モジュール及び光変調モジュール
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7445437 - 光源モジュール及び光変調モジュール
2020-01-20
光源モジュール及び光変調モジュール
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7445437 - 光源モジュール及び光変調モジュール
2020-01-20
光源モジュール及び光変調モジュール
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7445437 - 光源モジュール及び光変調モジュール
2020-01-20
光源モジュール及び光変調モジュール
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7445437 - 光源モジュール及び光変調モジュール
2020-01-20
光源モジュール及び光変調モジュール
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7445437 - 光源モジュール及び光変調モジュール
2020-01-17
検査装置及び検査方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7432558 - 検査装置及び検査方法
2020-01-17
検査装置及び検査方法
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特許: 7432558 - 検査装置及び検査方法
2019-12-27
増倍型イメージセンサ
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7471817 - 増倍型イメージセンサ
2019-12-27
光伝送媒体測定方法、光伝送媒体測定装置、光伝送媒体測定プログラム、及び記録媒体
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7436202 - 光伝送媒体測定方法、光伝送媒体測定装置、光伝送媒体測定プログラム、及び記録媒体
2019-12-27
増倍型イメージセンサ
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7471817 - 増倍型イメージセンサ
2019-12-27
光伝送媒体測定方法、光伝送媒体測定装置、光伝送媒体測定プログラム、及び記録媒体
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特許: 7436202 - 光伝送媒体測定方法、光伝送媒体測定装置、光伝送媒体測定プログラム、及び記録媒体
2019-12-27
増倍型イメージセンサ
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特許: 7471817 - 増倍型イメージセンサ
2019-12-20
テラヘルツ波用光学素子及びテラヘルツ波用光学素子の製造方法
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特許: 7455570 - テラヘルツ波用光学素子及びテラヘルツ波用光学素子の製造方法
2019-12-20
テラヘルツ波用レンズ及びテラヘルツ波用レンズの製造方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7455569 - テラヘルツ波用レンズ及びテラヘルツ波用レンズの製造方法
2019-12-20
テラヘルツ波用レンズ及びテラヘルツ波用レンズの製造方法
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特許: 7455569 - テラヘルツ波用レンズ及びテラヘルツ波用レンズの製造方法
2019-12-20
テラヘルツ波用レンズ及びテラヘルツ波用レンズの製造方法
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特許: 7455569 - テラヘルツ波用レンズ及びテラヘルツ波用レンズの製造方法
2019-12-20
テラヘルツ波用光学素子及びテラヘルツ波用光学素子の製造方法
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特許: 7455570 - テラヘルツ波用光学素子及びテラヘルツ波用光学素子の製造方法
2019-11-26
ハードコート層付モールド樹脂およびその製造方法
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特許: 7434174 - ハードコート層付モールド樹脂およびその製造方法
2019-11-26
ハードコート層付モールド樹脂およびその製造方法
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特許: 7434174 - ハードコート層付モールド樹脂およびその製造方法
2019-11-26
ハードコート層付モールド樹脂およびその製造方法
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特許: 7434174 - ハードコート層付モールド樹脂およびその製造方法
2019-10-31
発光素子駆動回路
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特許: 7428500 - 発光素子駆動回路
2019-10-31
発光素子駆動回路
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特許: 7428500 - 発光素子駆動回路
2019-10-30
ダマシン配線構造、アクチュエータ装置、及びダマシン配線構造の製造方法
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特許: 7431746 - ダマシン配線構造、アクチュエータ装置、及びダマシン配線構造の製造方法
2019-10-30
ダマシン配線構造、アクチュエータ装置、及びダマシン配線構造の製造方法
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特許: 7431746 - ダマシン配線構造、アクチュエータ装置、及びダマシン配線構造の製造方法
2019-10-30
ダマシン配線構造、アクチュエータ装置、及びダマシン配線構造の製造方法
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特許: 7431746 - ダマシン配線構造、アクチュエータ装置、及びダマシン配線構造の製造方法
2019-10-30
ダマシン配線構造、アクチュエータ装置、及びダマシン配線構造の製造方法
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特許: 7431746 - ダマシン配線構造、アクチュエータ装置、及びダマシン配線構造の製造方法
2019-10-30
レーザ加工方法
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特許: 7482034 - レーザ加工方法
2019-10-30
レーザ加工方法
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特許: 7482034 - レーザ加工方法
2019-10-23
ミラーデバイスの製造方法
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特許: 7467069 - ミラーデバイスの製造方法
2019-10-23
ミラーデバイスの製造方法
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特許: 7464374 - ミラーデバイスの製造方法
2019-10-23
ミラーデバイスの製造方法
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特許: 7467069 - ミラーデバイスの製造方法
2019-10-23
ミラーデバイスの製造方法
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特許: 7464374 - ミラーデバイスの製造方法
2019-09-30
光学デバイス
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特許: 7481821 - 光学デバイス
2019-09-30
光学デバイス
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特許: 7481821 - 光学デバイス
2019-09-26
光検出装置
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特許: 7475123 - 光検出装置
2019-09-26
光検出装置
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特許: 7475123 - 光検出装置
2019-09-26
光検出装置
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特許: 7475123 - 光検出装置
2019-09-26
光検出装置
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特許: 7475123 - 光検出装置
2019-09-26
光検出装置
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特許: 7475123 - 光検出装置
2019-09-11
光走査システムの製造方法、光走査装置の製造方法及びデータ取得方法
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特許: 7481099 - 光走査システムの製造方法、光走査装置の製造方法及びデータ取得方法
2019-09-11
光走査システム及び光走査装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7481098 - 光走査システム及び光走査装置
2019-09-11
光走査システムの製造方法、光走査装置の製造方法及びデータ取得方法
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特許: 7481099 - 光走査システムの製造方法、光走査装置の製造方法及びデータ取得方法
2019-09-11
光走査システム及び光走査装置
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特許: 7481098 - 光走査システム及び光走査装置
2019-09-11
光走査システム及び光走査装置
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特許: 7481098 - 光走査システム及び光走査装置
2019-09-11
光走査システム及び光走査装置
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特許: 7481098 - 光走査システム及び光走査装置
2019-09-11
光走査システム及び光走査装置
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特許: 7481098 - 光走査システム及び光走査装置
2019-08-09
アクチュエータ装置、及びアクチュエータ装置の製造方法
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特許: 7425730 - アクチュエータ装置、及びアクチュエータ装置の製造方法
2019-08-09
光学素子
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特許: 7427387 - 光学素子
2019-08-09
アクチュエータ装置、及びアクチュエータ装置の製造方法
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特許: 7425730 - アクチュエータ装置、及びアクチュエータ装置の製造方法
2019-08-09
アクチュエータ装置、及びアクチュエータ装置の製造方法
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特許: 7425730 - アクチュエータ装置、及びアクチュエータ装置の製造方法
2019-08-09
アクチュエータ装置、及びアクチュエータ装置の製造方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7425730 - アクチュエータ装置、及びアクチュエータ装置の製造方法
2019-07-24
Ｘ線管、及びＸ線発生装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7469547 - Ｘ線管、及びＸ線発生装置
2019-07-24
Ｘ線管、及びＸ線発生装置
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特許: 7469547 - Ｘ線管、及びＸ線発生装置
2019-06-14
光検出装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7455520 - 光検出装置
2019-06-14
光検出装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7454917 - 光検出装置
2019-06-14
光検出装置
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特許: 7454917 - 光検出装置
2019-06-14
光検出装置
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特許: 7455520 - 光検出装置
2019-06-14
光検出装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7454917 - 光検出装置
2019-06-14
光検出装置
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特許: 7454917 - 光検出装置
2019-06-14
光検出装置
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特許: 7455520 - 光検出装置
2019-06-14
光検出装置
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特許: 7454917 - 光検出装置
2019-06-14
光検出装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7455520 - 光検出装置
2019-02-27
撮像ユニット
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7457187 - 撮像ユニット
2019-02-27
撮像ユニット
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7457187 - 撮像ユニット
2019-02-27
撮像ユニット
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7457187 - 撮像ユニット
2019-02-27
撮像ユニット
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7457187 - 撮像ユニット
2019-02-27
撮像ユニット
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7457187 - 撮像ユニット
2019-02-27
撮像ユニット
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7457187 - 撮像ユニット
2019-02-27
撮像ユニット
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特許: 7457187 - 撮像ユニット
2019-02-27
撮像ユニット
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特許: 7457187 - 撮像ユニット
2019-02-21
放射線検出器、及び放射線検出器の製造方法
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特許: 7446592 - 放射線検出器、及び放射線検出器の製造方法
2019-01-24
光検出装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7461745 - 光検出装置
2019-01-24
光検出装置
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特許: 7461745 - 光検出装置
2019-01-24
光検出装置
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特許: 7461745 - 光検出装置
2019-01-24
光検出装置
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特許: 7461745 - 光検出装置
2019-01-24
光検出装置
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特許: 7461745 - 光検出装置
2018-10-18
放射線撮像装置
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特許: 7427066 - 放射線撮像装置
2018-10-18
放射線撮像装置
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特許: 7427066 - 放射線撮像装置
2018-10-18
放射線撮像装置
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特許: 7427066 - 放射線撮像装置
2018-10-18
放射線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7427066 - 放射線撮像装置
2018-10-04
レーザ加工方法及び半導体デバイス製造方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7482296 - レーザ加工方法及び半導体デバイス製造方法
2018-10-04
レーザ加工方法及び半導体デバイス製造方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7482296 - レーザ加工方法及び半導体デバイス製造方法
2018-10-04
レーザ加工方法及び半導体デバイス製造方法
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特許: 7482296 - レーザ加工方法及び半導体デバイス製造方法
2018-10-04
レーザ加工方法及び半導体デバイス製造方法
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特許: 7482296 - レーザ加工方法及び半導体デバイス製造方法
2018-08-27
アルツハイマー病指標表示装置及び方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7446816 - アルツハイマー病指標表示装置及び方法
2018-08-27
アルツハイマー病指標表示装置及び方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7446816 - アルツハイマー病指標表示装置及び方法
2018-08-27
アルツハイマー病指標表示装置及び方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7446816 - アルツハイマー病指標表示装置及び方法
2018-08-06
試料支持体、試料のイオン化方法、及び質量分析方法
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特許: 7431921 - 試料支持体、試料のイオン化方法、及び質量分析方法
2018-08-06
試料支持体、試料のイオン化方法、及び質量分析方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7431921 - 試料支持体、試料のイオン化方法、及び質量分析方法
2018-08-06
試料支持体、試料のイオン化方法、及び質量分析方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7431921 - 試料支持体、試料のイオン化方法、及び質量分析方法
2018-08-06
試料支持体、試料のイオン化方法、及び質量分析方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7431921 - 試料支持体、試料のイオン化方法、及び質量分析方法
2018-08-06
試料支持体、試料のイオン化方法、及び質量分析方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7431921 - 試料支持体、試料のイオン化方法、及び質量分析方法
2018-08-06
試料支持体、試料のイオン化方法、及び質量分析方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7431921 - 試料支持体、試料のイオン化方法、及び質量分析方法
2018-08-06
試料支持体、試料のイオン化方法、及び質量分析方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7431921 - 試料支持体、試料のイオン化方法、及び質量分析方法
2018-08-03
ミラー装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7448702 - ミラー装置
2018-08-03
ミラー装置
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特許: 7448702 - ミラー装置
2018-08-03
ミラー装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7448702 - ミラー装置
2018-08-02
光学デバイス
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7434496 - 光学デバイス
2018-08-02
光学デバイス
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7434496 - 光学デバイス
2018-08-02
固浸レンズユニット、半導体検査装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7465376 - 固浸レンズユニット、半導体検査装置
2018-08-02
固浸レンズユニット、半導体検査装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7465376 - 固浸レンズユニット、半導体検査装置
2018-08-02
光学デバイス
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7434496 - 光学デバイス
2018-08-02
固浸レンズユニット、半導体検査装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7465376 - 固浸レンズユニット、半導体検査装置
2018-08-02
固浸レンズユニット、半導体検査装置
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特許: 7465376 - 固浸レンズユニット、半導体検査装置
2018-06-18
フォトンカウンティング装置、フォトンカウンティング方法及びプログラム
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7470771 - フォトンカウンティング装置、フォトンカウンティング方法及びプログラム
2018-06-18
フォトンカウンティング装置、フォトンカウンティング方法及びプログラム
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7470771 - フォトンカウンティング装置、フォトンカウンティング方法及びプログラム
2018-06-18
フォトンカウンティング装置、フォトンカウンティング方法及びプログラム
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7470771 - フォトンカウンティング装置、フォトンカウンティング方法及びプログラム
2018-06-18
フォトンカウンティング装置、フォトンカウンティング方法及びプログラム
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7470771 - フォトンカウンティング装置、フォトンカウンティング方法及びプログラム
2018-06-18
フォトンカウンティング装置、フォトンカウンティング方法及びプログラム
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特許: 7470771 - フォトンカウンティング装置、フォトンカウンティング方法及びプログラム
2018-04-16
裏面入射型半導体光検出素子
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特許: 7433393 - 裏面入射型半導体光検出素子
2017-11-24
運搬方法
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特許: 7470158 - 運搬方法
2017-11-24
運搬方法
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特許: 7470158 - 運搬方法
2017-11-24
運搬方法
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特許: 7470158 - 運搬方法
2017-11-24
運搬方法
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特許: 7470158 - 運搬方法
2017-09-27
放射線検出器
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特許: 7431367 - 放射線検出器
2017-09-27
放射線検出器
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特許: 7431367 - 放射線検出器
2017-09-27
放射線検出器
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特許: 7431367 - 放射線検出器
2017-09-27
放射線検出器
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特許: 7431367 - 放射線検出器
2017-03-08
半導体光検出素子
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特許: 7445705 - 半導体光検出素子
2016-10-13
放射線画像読取装置
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特許: 7445795 - 放射線画像読取装置
2016-10-13
放射線画像読取装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7445795 - 放射線画像読取装置
2016-10-13
放射線画像読取装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7445795 - 放射線画像読取装置
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2022-04-01
令和３年度産業技術実用化開発事業費補助金（サプライチェーン上不可欠性の高い半導体の生産設備の脱炭素化・刷新事業費補助金）一次公募（浜松ホトニクス）
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2022-04-01
令和３年度産業技術実用化開発事業費補助金（サプライチェーン上不可欠性の高い半導体の生産設備の脱炭素化・刷新事業費補助金）一次公募（浜松ホトニクス）
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金額:56885833
発行元:経済産業省
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企業連絡先情報
代表電話番号 (公開)053-434-3311
公式ウェブサイト (公開)http://www.hamamatsu.com
FAX番号03-3456-7890 (サンプル)
メールアドレスcontact@company.co.jp (サンプル)