活動中製造業更新: 2026/06/10
キヤノンアネルバ株式会社
法人番号: 2020001079798
企業基本情報
商号または名称キヤノンアネルバ株式会社
フリガナキヤノンアネルバ
登記住所神奈川県川崎市麻生区栗木２丁目５番１号
代表者名中島 卓実
資本金未登録
従業員数1065名
設立年月日1950-10-04
事業種目 (Tags)食料品製造業, 化学工業, 生産用機械器具製造業, 製造業
決算・財務状況推移 (5年間)
売上高 (棒グラフ)経常利益 (折れ線)
営業シグナルタイムライン (Intent Data)
2023-03-17
Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7337312 - Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
2023-03-17
Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7337312 - Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
2023-03-17
Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7337312 - Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
2023-03-17
Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7337312 - Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
2023-03-17
Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7337312 - Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
2023-03-17
Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7337312 - Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
2023-03-17
Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7337312 - Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
2023-03-17
Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7337312 - Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
2023-03-10
Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置およびモールド変圧器
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7413614 - Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置およびモールド変圧器
2023-03-10
Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置およびモールド変圧器
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7413614 - Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置およびモールド変圧器
2023-03-10
Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置およびモールド変圧器
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7413614 - Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置およびモールド変圧器
2023-03-10
Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置およびモールド変圧器
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7413614 - Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置およびモールド変圧器
2022-09-15
Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7394271 - Ｘ線発生装置、Ｘ線撮像装置、および、Ｘ線発生装置の調整方法
2022-03-31
Ｘ線発生装置、ターゲットの調整方法、および、Ｘ線発生装置の使用方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7395086 - Ｘ線発生装置、ターゲットの調整方法、および、Ｘ線発生装置の使用方法
2022-03-31
Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7430296 - Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2022-03-31
電気部品、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7333884 - 電気部品、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2022-03-31
Ｘ線発生装置、ターゲットの調整方法、および、Ｘ線発生装置の使用方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7395086 - Ｘ線発生装置、ターゲットの調整方法、および、Ｘ線発生装置の使用方法
2022-03-31
Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7430296 - Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2022-03-31
電気部品、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7333884 - 電気部品、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2022-03-31
Ｘ線発生装置、ターゲットの調整方法、および、Ｘ線発生装置の使用方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7395086 - Ｘ線発生装置、ターゲットの調整方法、および、Ｘ線発生装置の使用方法
2022-03-31
Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7430296 - Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2022-03-31
Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7430296 - Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2022-03-31
電気部品、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7333884 - 電気部品、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2022-03-03
真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7450119 - 真空処理装置
2022-03-03
真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7450119 - 真空処理装置
2022-03-03
真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7450119 - 真空処理装置
2022-02-07
化学結合法及びパッケージ型電子部品，並びに電子デバイスのハイブリッド接合法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7165342 - 化学結合法及びパッケージ型電子部品，並びに電子デバイスのハイブリッド接合法
2021-09-02
真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7393401 - 真空処理装置
2021-09-02
真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7317906 - 真空処理装置
2021-09-02
真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7393401 - 真空処理装置
2021-09-02
真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7393400 - 真空処理装置
2021-09-02
真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7317906 - 真空処理装置
2021-09-02
真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7393400 - 真空処理装置
2021-09-02
真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7393400 - 真空処理装置
2021-09-02
真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7393401 - 真空処理装置
2021-08-31
スパッタ装置および膜形成方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7298029 - スパッタ装置および膜形成方法
2021-07-08
イオンガン及び真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6985570 - イオンガン及び真空処理装置
2021-07-08
イオンガン及び真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6985570 - イオンガン及び真空処理装置
2021-07-08
イオンガン及び真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6985570 - イオンガン及び真空処理装置
2021-06-29
積層構造体の製造方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7382988 - 積層構造体の製造方法
2021-06-29
積層構造体の製造方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7382988 - 積層構造体の製造方法
2021-06-29
積層構造体の製造方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7382988 - 積層構造体の製造方法
2021-05-18
積層体及び積層体の製造方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7200436 - 積層体及び積層体の製造方法
2021-05-18
積層体及び積層体の製造方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7200436 - 積層体及び積層体の製造方法
2020-11-11
成膜装置、成膜装置の制御装置及び成膜方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6932873 - 成膜装置、成膜装置の制御装置及び成膜方法
2020-09-01
基板を搬送する方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7474219 - 基板を搬送する方法
2020-09-01
ロードロック装置の使用方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7473493 - ロードロック装置の使用方法
2020-09-01
ロードロック装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6861317 - ロードロック装置
2020-09-01
ロードロック装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6842804 - ロードロック装置
2020-09-01
ロードロック装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6818930 - ロードロック装置
2020-09-01
ロードロック装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6815554 - ロードロック装置
2020-09-01
ロードロック装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6818930 - ロードロック装置
2020-09-01
ロードロック装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6818930 - ロードロック装置
2020-07-22
イオンガン及び真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6963150 - イオンガン及び真空処理装置
2020-07-22
イオンガン及び真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6963150 - イオンガン及び真空処理装置
2020-07-22
イオンガン及び真空処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6963150 - イオンガン及び真空処理装置
2020-06-04
化学結合法及び接合構造体
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7131778 - 化学結合法及び接合構造体
2020-06-01
原子拡散接合法及び接合構造体
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7390619 - 原子拡散接合法及び接合構造体
2020-06-01
原子拡散接合法及び接合構造体
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7390619 - 原子拡散接合法及び接合構造体
2020-06-01
原子拡散接合法及び接合構造体
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7390619 - 原子拡散接合法及び接合構造体
2019-09-19
電子発生装置および電離真空計
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7314000 - 電子発生装置および電離真空計
2019-09-13
電離真空計およびカートリッジ
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6687823 - 電離真空計およびカートリッジ
2019-09-13
電離真空計およびカートリッジ
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6721806 - 電離真空計およびカートリッジ
2019-09-03
Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6683903 - Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2019-09-03
Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6683903 - Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2019-09-03
Ｘ線発生装置およびＸ線撮影装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6704100 - Ｘ線発生装置およびＸ線撮影装置
2019-09-03
Ｘ線発生装置およびＸ線撮影装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6704100 - Ｘ線発生装置およびＸ線撮影装置
2019-09-03
Ｘ線発生装置およびＸ線撮影装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6704100 - Ｘ線発生装置およびＸ線撮影装置
2019-09-03
Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6683903 - Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2019-09-03
Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6683903 - Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2019-09-03
Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6683903 - Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2019-09-03
Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6683903 - Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2019-06-24
Ｘ線発生管、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6619916 - Ｘ線発生管、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2019-06-24
Ｘ線発生管、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6619916 - Ｘ線発生管、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2019-04-15
Ｘ線発生装置およびＸ線撮影装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6639757 - Ｘ線発生装置およびＸ線撮影装置
2019-04-15
Ｘ線発生装置およびＸ線撮影装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6639757 - Ｘ線発生装置およびＸ線撮影装置
2019-04-15
Ｘ線発生装置およびＸ線撮影装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6639757 - Ｘ線発生装置およびＸ線撮影装置
2019-01-31
基板処理装置および基板処理方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6738976 - 基板処理装置および基板処理方法
2019-01-31
基板処理装置および基板処理方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6738976 - 基板処理装置および基板処理方法
2018-12-28
電子銃、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6571907 - 電子銃、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2018-12-28
Ｘ線発生管、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6609088 - Ｘ線発生管、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2018-12-28
電子銃、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6571907 - 電子銃、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2018-12-28
電子銃、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6571907 - 電子銃、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2018-12-28
電子銃、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6571907 - 電子銃、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2018-12-28
電子銃、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6571907 - 電子銃、Ｘ線発生装置およびＸ線撮像装置
2018-12-21
プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、プログラムおよびメモリ媒体
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6688440 - プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、プログラムおよびメモリ媒体
2018-12-21
プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、プログラムおよびメモリ媒体
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6688440 - プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、プログラムおよびメモリ媒体
2018-12-21
プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、プログラムおよびメモリ媒体
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6688440 - プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、プログラムおよびメモリ媒体
2018-12-21
プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、プログラムおよびメモリ媒体
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6688440 - プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、プログラムおよびメモリ媒体
2018-12-21
プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、プログラムおよびメモリ媒体
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6688440 - プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、プログラムおよびメモリ媒体
2018-10-22
Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6695011 - Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
2018-10-22
Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6695011 - Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
2018-10-22
Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6695011 - Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
2018-10-22
Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6695011 - Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
2018-10-22
Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6695011 - Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
2018-10-22
Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6695011 - Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7133441 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6516950 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7145833 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2018-06-26
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7145832 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2018-06-26
プラズマ処理装置および方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6656479 - プラズマ処理装置および方法
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6546369 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7145832 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6516951 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7133441 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置および方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6656481 - プラズマ処理装置および方法
2018-06-26
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7145833 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2018-06-26
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7145136 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2018-06-26
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7145832 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6714127 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6516951 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6457707 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6546369 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置および方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6656480 - プラズマ処理装置および方法
2018-06-26
プラズマ処理装置および方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6656478 - プラズマ処理装置および方法
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6516951 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7145135 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2018-06-26
プラズマ処理装置および方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6656479 - プラズマ処理装置および方法
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6457707 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7145136 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6714127 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6457707 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6458206 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7202199 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置および方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6656481 - プラズマ処理装置および方法
2018-06-26
プラズマ処理装置および方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6656480 - プラズマ処理装置および方法
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6516950 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置および方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6656480 - プラズマ処理装置および方法
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7202199 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置および方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6656479 - プラズマ処理装置および方法
2018-06-26
プラズマ処理装置および方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6656478 - プラズマ処理装置および方法
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6564556 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7145135 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6516951 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7145136 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 6516951 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7145135 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7202198 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置
シグナル詳細内容 🔑
特許: 7133441 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置および方法
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特許: 6656478 - プラズマ処理装置および方法
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プラズマ処理装置
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特許: 6516950 - プラズマ処理装置
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プラズマ処理装置および方法
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プラズマ処理装置および方法
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プラズマ処理装置
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プラズマ処理装置
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プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
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特許: 7145833 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
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プラズマ処理装置
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プラズマ処理装置
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特許: 6516951 - プラズマ処理装置
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プラズマ処理装置
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プラズマ処理装置および方法
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特許: 6656481 - プラズマ処理装置および方法
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プラズマ処理装置および方法
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特許: 6656478 - プラズマ処理装置および方法
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プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
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特許: 7145136 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
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プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
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特許: 7145833 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
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プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
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特許: 7145832 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
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プラズマ処理装置
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特許: 6714127 - プラズマ処理装置
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プラズマ処理装置
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特許: 6457707 - プラズマ処理装置
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プラズマ処理装置
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特許: 6458206 - プラズマ処理装置
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プラズマ処理装置
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特許: 7133441 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置
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特許: 6516951 - プラズマ処理装置
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プラズマ処理装置
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特許: 6546369 - プラズマ処理装置
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プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
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特許: 7145832 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2018-06-26
プラズマ処理装置および方法
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特許: 6656478 - プラズマ処理装置および方法
2018-06-26
プラズマ処理装置
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特許: 6546369 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置
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特許: 7133441 - プラズマ処理装置
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プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
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特許: 7145135 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2018-06-26
プラズマ処理装置および方法
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特許: 6656479 - プラズマ処理装置および方法
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プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
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特許: 7145833 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2018-06-26
プラズマ処理装置
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特許: 6714127 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
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特許: 7145136 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2018-06-26
プラズマ処理装置
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2018-06-26
プラズマ処理装置
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特許: 7202198 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置
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特許: 6458206 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置
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特許: 7202198 - プラズマ処理装置
2018-06-26
プラズマ処理装置
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2017-12-27
成膜方法および成膜装置
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特許: 6487611 - 成膜方法および成膜装置
2017-12-27
成膜方法および成膜装置
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特許: 6487611 - 成膜方法および成膜装置
2017-11-13
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
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特許: 6684973 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2017-11-13
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
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特許: 6684973 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2017-11-13
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
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特許: 6684973 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
2017-11-06
熱発生方法および装置
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特許: 7309376 - 熱発生方法および装置
2017-11-06
構造体およびその製造方法
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特許: 6482013 - 構造体およびその製造方法
2017-11-06
構造体およびその製造方法
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特許: 6482013 - 構造体およびその製造方法
2017-11-06
構造体およびその製造方法
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2017-11-06
構造体およびその製造方法
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2017-11-06
熱発生方法および装置
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特許: 7309376 - 熱発生方法および装置
2017-11-06
構造体およびその製造方法
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特許: 6482013 - 構造体およびその製造方法
2017-11-06
構造体およびその製造方法
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2017-11-06
熱発生方法および装置
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特許: 7309376 - 熱発生方法および装置
2017-11-06
構造体およびその製造方法
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特許: 6482013 - 構造体およびその製造方法
2017-06-27
プラズマ処理装置
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特許: 6280677 - プラズマ処理装置
2017-06-27
プラズマ処理装置
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特許: 6309683 - プラズマ処理装置
2017-06-27
スパッタリング装置
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特許: 6595002 - スパッタリング装置
2017-06-27
プラズマ処理装置
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特許: 6280677 - プラズマ処理装置
2017-06-27
エッチング装置
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特許: 6785935 - エッチング装置
2017-06-27
プラズマ処理装置
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特許: 6309683 - プラズマ処理装置
2017-06-27
プラズマ処理装置
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2017-06-27
スパッタリング装置
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2017-06-27
プラズマ処理装置
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2017-06-27
エッチング装置
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特許: 6785935 - エッチング装置
2017-06-27
プラズマ処理装置
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特許: 6309683 - プラズマ処理装置
2017-06-27
プラズマ処理装置
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特許: 6309683 - プラズマ処理装置
2017-06-27
プラズマ処理装置
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特許: 6280677 - プラズマ処理装置
2017-06-27
エッチング装置
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特許: 6785935 - エッチング装置
2017-06-27
エッチング装置
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特許: 6785935 - エッチング装置
2017-06-27
プラズマ処理装置
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特許: 6309683 - プラズマ処理装置
2017-06-27
プラズマ処理装置
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特許: 6280677 - プラズマ処理装置
2017-06-27
エッチング装置
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特許: 6785935 - エッチング装置
2017-03-13
冷陰極電離真空計及び冷陰極電離真空計用カートリッジ
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特許: 6177492 - 冷陰極電離真空計及び冷陰極電離真空計用カートリッジ
2016-11-17
Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
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特許: 6190563 - Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
2016-11-17
Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
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特許: 6190563 - Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
2016-10-31
Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
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特許: 6355876 - Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
2016-10-31
Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
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特許: 6355876 - Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
2016-10-31
Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
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特許: 6355876 - Ｘ線発生装置及びＸ線撮影システム
2016-09-16
加熱装置、基板加熱装置および半導体デバイスの製造方法
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特許: 6068738 - 加熱装置、基板加熱装置および半導体デバイスの製造方法
2016-09-16
加熱装置、基板加熱装置および半導体デバイスの製造方法
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特許: 6068738 - 加熱装置、基板加熱装置および半導体デバイスの製造方法
2016-02-01
磁気抵抗効果素子の製造方法
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特許: 6591568 - 磁気抵抗効果素子の製造方法
2016-02-01
磁気抵抗効果素子の製造方法
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特許: 6591568 - 磁気抵抗効果素子の製造方法
2016-02-01
磁気抵抗効果素子の製造方法
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特許: 6591568 - 磁気抵抗効果素子の製造方法
2016-01-14
磁気抵抗効果素子
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特許: 5952519 - 磁気抵抗効果素子
2016-01-14
磁気抵抗効果素子
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特許: 5952519 - 磁気抵抗効果素子
2016-01-14
磁気抵抗効果素子
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特許: 5952519 - 磁気抵抗効果素子
2016-01-14
磁気抵抗効果素子
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特許: 5952519 - 磁気抵抗効果素子
2016-01-14
磁気抵抗効果素子
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特許: 5952519 - 磁気抵抗効果素子
2016-01-07
成膜装置
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特許: 6121576 - 成膜装置
2016-01-07
成膜装置
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特許: 6121576 - 成膜装置
2016-01-07
成膜装置
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特許: 6121576 - 成膜装置
2015-12-16
真空アーク成膜装置および成膜方法
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特許: 5997417 - 真空アーク成膜装置および成膜方法
2015-12-16
真空アーク成膜装置および成膜方法
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特許: 5997417 - 真空アーク成膜装置および成膜方法
2015-12-16
真空アーク成膜装置および成膜方法
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特許: 5997417 - 真空アーク成膜装置および成膜方法
2015-12-16
真空アーク成膜装置および成膜方法
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特許: 5997417 - 真空アーク成膜装置および成膜方法
2015-12-16
真空アーク成膜装置および成膜方法
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特許: 5997417 - 真空アーク成膜装置および成膜方法
2015-11-25
グリッド及びその製造方法並びにイオンビーム処理装置
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特許: 5970143 - グリッド及びその製造方法並びにイオンビーム処理装置
2015-11-25
グリッド及びその製造方法並びにイオンビーム処理装置
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特許: 5970143 - グリッド及びその製造方法並びにイオンビーム処理装置
2015-10-21
磁気抵抗素子の製造方法
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特許: 6084335 - 磁気抵抗素子の製造方法
2015-10-21
磁気抵抗素子の製造方法
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特許: 6084335 - 磁気抵抗素子の製造方法
2015-10-21
磁気抵抗素子の製造方法
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特許: 6084335 - 磁気抵抗素子の製造方法
2015-10-21
磁気抵抗素子の製造方法
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特許: 6084335 - 磁気抵抗素子の製造方法
2015-10-02
イオンビームエッチング方法およびイオンビームエッチング装置
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特許: 6118458 - イオンビームエッチング方法およびイオンビームエッチング装置
2015-10-02
イオンビームエッチング方法およびイオンビームエッチング装置
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特許: 6118458 - イオンビームエッチング方法およびイオンビームエッチング装置
2015-07-31
スパッタ装置および成膜装置
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特許: 6046871 - スパッタ装置および成膜装置
2015-07-31
スパッタ装置および成膜装置
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特許: 6046871 - スパッタ装置および成膜装置
2015-07-09
成膜方法、真空処理装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、半導体電子素子の製造方法、半導体電子素子、照明装置
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特許: 6196384 - 成膜方法、真空処理装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、半導体電子素子の製造方法、半導体電子素子、照明装置
2015-07-09
成膜方法、真空処理装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、半導体電子素子の製造方法、半導体電子素子、照明装置
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特許: 6196384 - 成膜方法、真空処理装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、半導体電子素子の製造方法、半導体電子素子、照明装置
2015-07-09
成膜方法、真空処理装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、半導体電子素子の製造方法、半導体電子素子、照明装置
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特許: 6196384 - 成膜方法、真空処理装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、半導体電子素子の製造方法、半導体電子素子、照明装置
2015-07-09
成膜方法、真空処理装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、半導体電子素子の製造方法、半導体電子素子、照明装置
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特許: 6196384 - 成膜方法、真空処理装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、半導体電子素子の製造方法、半導体電子素子、照明装置
2015-07-09
成膜方法、真空処理装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、半導体電子素子の製造方法、半導体電子素子、照明装置
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特許: 6196384 - 成膜方法、真空処理装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、半導体電子素子の製造方法、半導体電子素子、照明装置
2015-07-09
成膜方法、真空処理装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、半導体電子素子の製造方法、半導体電子素子、照明装置
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特許: 6196384 - 成膜方法、真空処理装置、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、半導体電子素子の製造方法、半導体電子素子、照明装置
2015-06-22
成膜装置
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特許: 6352436 - 成膜装置
2015-06-22
成膜装置
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特許: 6352436 - 成膜装置
2015-06-22
成膜装置
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特許: 6352436 - 成膜装置
2015-06-01
イオンビームエッチング装置、およびイオンビーム発生装置
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特許: 6184441 - イオンビームエッチング装置、およびイオンビーム発生装置
2015-06-01
イオンビームエッチング装置、およびイオンビーム発生装置
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特許: 6184441 - イオンビームエッチング装置、およびイオンビーム発生装置
2015-06-01
イオンビームエッチング装置、およびイオンビーム発生装置
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特許: 6184441 - イオンビームエッチング装置、およびイオンビーム発生装置
2015-03-24
半導体基板の熱処理方法及び熱処理装置
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特許: 6668521 - 半導体基板の熱処理方法及び熱処理装置
2015-03-24
半導体基板の熱処理方法、半導体基板の製造方法、熱処理装置、及び基板処理システム
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特許: 6588423 - 半導体基板の熱処理方法、半導体基板の製造方法、熱処理装置、及び基板処理システム
2015-03-24
半導体基板の熱処理方法、半導体基板の製造方法、熱処理装置、及び基板処理システム
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特許: 6588423 - 半導体基板の熱処理方法、半導体基板の製造方法、熱処理装置、及び基板処理システム
2015-03-24
半導体基板の熱処理方法及び熱処理装置
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特許: 6668521 - 半導体基板の熱処理方法及び熱処理装置
2015-03-24
半導体基板の熱処理方法及び熱処理装置
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特許: 6668521 - 半導体基板の熱処理方法及び熱処理装置
2015-03-24
半導体基板の熱処理方法及び熱処理装置
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特許: 6668521 - 半導体基板の熱処理方法及び熱処理装置
2015-03-24
半導体基板の熱処理方法、半導体基板の製造方法、熱処理装置、及び基板処理システム
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特許: 6588423 - 半導体基板の熱処理方法、半導体基板の製造方法、熱処理装置、及び基板処理システム
2015-03-24
半導体基板の凹部の角部を丸める方法及び装置
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特許: 6530377 - 半導体基板の凹部の角部を丸める方法及び装置
2015-03-24
半導体基板の熱処理方法及び熱処理装置
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特許: 6668521 - 半導体基板の熱処理方法及び熱処理装置
2015-03-24
半導体基板の凹部の角部を丸める方法及び装置
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特許: 6530377 - 半導体基板の凹部の角部を丸める方法及び装置
2015-03-24
半導体基板の熱処理方法及び熱処理装置
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特許: 6668521 - 半導体基板の熱処理方法及び熱処理装置
2015-03-24
半導体基板の凹部の角部を丸める方法及び装置
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特許: 6530377 - 半導体基板の凹部の角部を丸める方法及び装置
2015-03-24
半導体基板の凹部の角部を丸める方法及び装置
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特許: 6530377 - 半導体基板の凹部の角部を丸める方法及び装置
2015-03-24
半導体基板の凹部の角部を丸める方法及び装置
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特許: 6530377 - 半導体基板の凹部の角部を丸める方法及び装置
2015-03-24
半導体基板の凹部の角部を丸める方法及び装置
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特許: 6530377 - 半導体基板の凹部の角部を丸める方法及び装置
2015-03-17
窒化物半導体層の成膜方法及び半導体装置の製造方法
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特許: 6001194 - 窒化物半導体層の成膜方法及び半導体装置の製造方法
2015-03-17
窒化物半導体層の成膜方法及び半導体装置の製造方法
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特許: 6001194 - 窒化物半導体層の成膜方法及び半導体装置の製造方法
2015-03-17
窒化物半導体層の成膜方法及び半導体装置の製造方法
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特許: 6001194 - 窒化物半導体層の成膜方法及び半導体装置の製造方法
2015-03-17
窒化物半導体層の成膜方法及び半導体装置の製造方法
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特許: 6001194 - 窒化物半導体層の成膜方法及び半導体装置の製造方法
2015-03-17
磁気抵抗効果素子の製造方法および製造システム
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特許: 5824192 - 磁気抵抗効果素子の製造方法および製造システム
2015-03-17
磁気抵抗効果素子の製造方法および製造システム
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特許: 5824192 - 磁気抵抗効果素子の製造方法および製造システム
2015-03-17
磁気抵抗効果素子の製造方法および製造システム
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特許: 5824192 - 磁気抵抗効果素子の製造方法および製造システム
2015-03-17
窒化物半導体層の成膜方法及び半導体装置の製造方法
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特許: 6001194 - 窒化物半導体層の成膜方法及び半導体装置の製造方法
2015-03-17
窒化物半導体層の成膜方法及び半導体装置の製造方法
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特許: 6001194 - 窒化物半導体層の成膜方法及び半導体装置の製造方法
2015-03-12
基板処理装置
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特許: 6401084 - 基板処理装置
2015-03-12
基板処理装置
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特許: 6401084 - 基板処理装置
2015-02-13
質量分析装置
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特許: 6359470 - 質量分析装置
2015-02-13
質量分析装置
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特許: 6359470 - 質量分析装置
2015-02-02
垂直磁化型ＭＴＪ素子の製造方法
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特許: 5848494 - 垂直磁化型ＭＴＪ素子の製造方法
2015-02-02
垂直磁化型ＭＴＪ素子の製造方法
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特許: 5848494 - 垂直磁化型ＭＴＪ素子の製造方法
2015-02-02
垂直磁化型ＭＴＪ素子の製造方法
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特許: 5848494 - 垂直磁化型ＭＴＪ素子の製造方法
2015-02-02
垂直磁化型ＭＴＪ素子の製造方法
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特許: 5848494 - 垂直磁化型ＭＴＪ素子の製造方法
2015-02-02
垂直磁化型ＭＴＪ素子の製造方法
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特許: 5848494 - 垂直磁化型ＭＴＪ素子の製造方法
2015-01-09
金属膜および金属膜の成膜方法
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特許: 6082165 - 金属膜および金属膜の成膜方法
2015-01-09
金属膜および金属膜の成膜方法
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特許: 6082165 - 金属膜および金属膜の成膜方法
2015-01-09
金属膜および金属膜の成膜方法
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特許: 6082165 - 金属膜および金属膜の成膜方法
2015-01-09
金属膜および金属膜の成膜方法
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特許: 6082165 - 金属膜および金属膜の成膜方法
2015-01-09
金属膜および金属膜の成膜方法
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特許: 6082165 - 金属膜および金属膜の成膜方法
2015-01-09
金属膜および金属膜の成膜方法
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特許: 6082165 - 金属膜および金属膜の成膜方法
2015-01-09
金属膜および金属膜の成膜方法
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特許: 6082165 - 金属膜および金属膜の成膜方法
2015-01-09
金属膜および金属膜の成膜方法
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特許: 6082165 - 金属膜および金属膜の成膜方法
2014-11-21
真空処理装置及び真空処理方法
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特許: 6055575 - 真空処理装置及び真空処理方法
2014-11-21
真空処理装置及び真空処理方法
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特許: 6055575 - 真空処理装置及び真空処理方法
2014-11-21
真空処理装置及び真空処理方法
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特許: 6055575 - 真空処理装置及び真空処理方法
2014-11-21
真空処理装置及び真空処理方法
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特許: 6055575 - 真空処理装置及び真空処理方法
2014-11-14
成膜装置
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特許: 6126302 - 成膜装置
2014-11-14
トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法、およびスパッタリング装置
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特許: 6095806 - トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法、およびスパッタリング装置
2014-11-14
トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法、およびスパッタリング装置
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特許: 6095806 - トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法、およびスパッタリング装置
2014-11-14
トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法、およびスパッタリング装置
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特許: 6095806 - トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法、およびスパッタリング装置
2014-11-14
トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法、およびスパッタリング装置
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特許: 6095806 - トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法、およびスパッタリング装置
2014-11-14
トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法、およびスパッタリング装置
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特許: 6095806 - トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法、およびスパッタリング装置
2014-11-14
トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法、およびスパッタリング装置
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特許: 6095806 - トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法、およびスパッタリング装置
2014-11-14
成膜装置
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特許: 6126302 - 成膜装置
2014-11-14
成膜装置
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特許: 6126302 - 成膜装置
2014-11-14
トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法、およびスパッタリング装置
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特許: 6095806 - トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法、およびスパッタリング装置
2014-11-14
トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法、およびスパッタリング装置
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特許: 6095806 - トンネル磁気抵抗効果素子の製造方法、およびスパッタリング装置
2014-11-12
磁気抵抗効果素子の製造方法
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特許: 6077133 - 磁気抵抗効果素子の製造方法
2014-11-12
磁気抵抗効果素子の製造方法
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特許: 6077133 - 磁気抵抗効果素子の製造方法
2014-11-12
磁気抵抗効果素子の製造方法
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特許: 6077133 - 磁気抵抗効果素子の製造方法
2014-11-12
磁気抵抗効果素子の製造方法
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特許: 6077133 - 磁気抵抗効果素子の製造方法
2014-11-12
磁気抵抗効果素子の製造方法
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特許: 6077133 - 磁気抵抗効果素子の製造方法
2014-11-12
磁気抵抗効果素子の製造方法
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特許: 6077133 - 磁気抵抗効果素子の製造方法
2014-11-06
成膜装置
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特許: 6059195 - 成膜装置
2014-10-21
基板処理装置および方法
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特許: 6067877 - 基板処理装置および方法
2014-10-21
基板処理装置および方法
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特許: 6067877 - 基板処理装置および方法
2014-10-21
基板処理装置および方法
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特許: 6067877 - 基板処理装置および方法
2014-10-21
基板処理装置および方法
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特許: 6067877 - 基板処理装置および方法
2014-08-27
基板加工方法及び半導体装置の製造方法
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特許: 6028110 - 基板加工方法及び半導体装置の製造方法
2014-08-27
基板加工方法及び半導体装置の製造方法
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特許: 6028110 - 基板加工方法及び半導体装置の製造方法
2014-08-27
基板加工方法及び半導体装置の製造方法
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特許: 6028110 - 基板加工方法及び半導体装置の製造方法
2014-08-27
基板加工方法及び半導体装置の製造方法
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特許: 6028110 - 基板加工方法及び半導体装置の製造方法
2014-08-27
基板加工方法及び半導体装置の製造方法
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特許: 6028110 - 基板加工方法及び半導体装置の製造方法
2014-08-27
基板加工方法及び半導体装置の製造方法
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特許: 6028110 - 基板加工方法及び半導体装置の製造方法
2014-08-27
基板加工方法及び半導体装置の製造方法
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特許: 6028110 - 基板加工方法及び半導体装置の製造方法
2014-05-26
真空処理装置、真空処理方法、磁気抵抗効果素子の製造方法および磁気抵抗効果素子の製造装置
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特許: 6068662 - 真空処理装置、真空処理方法、磁気抵抗効果素子の製造方法および磁気抵抗効果素子の製造装置
2014-05-26
真空処理装置、真空処理方法、磁気抵抗効果素子の製造方法および磁気抵抗効果素子の製造装置
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特許: 6068662 - 真空処理装置、真空処理方法、磁気抵抗効果素子の製造方法および磁気抵抗効果素子の製造装置
2014-05-26
真空処理装置、真空処理方法、磁気抵抗効果素子の製造方法および磁気抵抗効果素子の製造装置
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特許: 6068662 - 真空処理装置、真空処理方法、磁気抵抗効果素子の製造方法および磁気抵抗効果素子の製造装置
2014-05-26
真空処理装置、真空処理方法、磁気抵抗効果素子の製造方法および磁気抵抗効果素子の製造装置
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特許: 6068662 - 真空処理装置、真空処理方法、磁気抵抗効果素子の製造方法および磁気抵抗効果素子の製造装置
2014-04-18
磁気抵抗効果素子の製造方法
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特許: 6078610 - 磁気抵抗効果素子の製造方法
2014-04-18
磁気抵抗効果素子の製造方法
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特許: 6078610 - 磁気抵抗効果素子の製造方法
2014-04-18
磁気抵抗効果素子の製造システム
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特許: 5824189 - 磁気抵抗効果素子の製造システム
2014-04-18
磁気抵抗効果素子の製造システム
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特許: 5824189 - 磁気抵抗効果素子の製造システム
2014-04-18
磁気抵抗効果素子の製造方法
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特許: 6078610 - 磁気抵抗効果素子の製造方法
2014-04-18
磁気抵抗効果素子の製造システム
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特許: 5824189 - 磁気抵抗効果素子の製造システム
2014-04-18
磁気抵抗効果素子の製造システム
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特許: 5824189 - 磁気抵抗効果素子の製造システム
2014-04-18
磁気抵抗効果素子の製造システム
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特許: 5824189 - 磁気抵抗効果素子の製造システム
2014-04-18
磁気抵抗効果素子の製造方法
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特許: 6078610 - 磁気抵抗効果素子の製造方法
2014-04-18
磁気抵抗効果素子の製造方法
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特許: 6078610 - 磁気抵抗効果素子の製造方法
2014-04-18
磁気抵抗効果素子の製造方法
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特許: 6078610 - 磁気抵抗効果素子の製造方法
2014-04-18
磁気抵抗効果素子の製造方法
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特許: 6078610 - 磁気抵抗効果素子の製造方法
2014-04-09
エッチング装置
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特許: 6348321 - エッチング装置
2014-04-09
エッチング装置
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特許: 6348321 - エッチング装置
2014-04-09
エッチング装置
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特許: 6348321 - エッチング装置
2014-03-31
スパッタリング装置
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特許: 5993090 - スパッタリング装置
2014-03-31
スパッタリング装置
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特許: 5993090 - スパッタリング装置
2014-03-28
酸化物薄膜の形成方法
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特許: 6005288 - 酸化物薄膜の形成方法
2014-03-28
酸化物薄膜の形成方法
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特許: 6005288 - 酸化物薄膜の形成方法
2014-03-28
酸化物薄膜の形成方法
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特許: 6005288 - 酸化物薄膜の形成方法
2014-03-04
真空処理装置
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特許: 6047235 - 真空処理装置
2014-03-04
真空処理装置
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特許: 6047235 - 真空処理装置
2014-03-04
真空処理装置
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特許: 6047235 - 真空処理装置
2014-03-04
真空処理装置
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特許: 6047235 - 真空処理装置
2014-03-04
真空処理装置
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特許: 6047235 - 真空処理装置
2014-03-04
真空処理装置
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特許: 6047235 - 真空処理装置
2014-03-04
真空処理装置
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特許: 6047235 - 真空処理装置
2014-02-26
成膜方法、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、照明装置
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特許: 6063035 - 成膜方法、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、照明装置
2014-02-26
成膜方法、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、照明装置
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特許: 6063035 - 成膜方法、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、照明装置
2014-02-26
成膜方法、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、照明装置
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特許: 6063035 - 成膜方法、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、照明装置
2014-02-26
成膜方法、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、照明装置
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特許: 6063035 - 成膜方法、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、照明装置
2014-02-26
成膜方法、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、照明装置
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特許: 6063035 - 成膜方法、半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、照明装置
2014-02-17
処理装置
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特許: 6231399 - 処理装置
2014-02-17
処理装置
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特許: 6231399 - 処理装置
2014-02-07
成膜装置
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特許: 5965058 - 成膜装置
2014-02-07
成膜装置
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特許: 5965058 - 成膜装置
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2021-11-16
省エネエレクトロニクスの製造基盤強化に向けた技術開発事業半導体製造装置の高度化に向けた開発次世代不揮発性メモリ向け成膜装置の開発
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2021-11-16
省エネエレクトロニクスの製造基盤強化に向けた技術開発事業半導体製造装置の高度化に向けた開発次世代不揮発性メモリ向け成膜装置の開発
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組織名:国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構
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